BESCHREIBUNG
Bietet eine experimentelle Umgebung mit Vakuum, kontrollierter Atmosphäre und hoher Temperatur.
Dieses CVD-Wachstumssystem eignet sich für CVD-Prozesse wie Siliziumkarbidbeschichtung, Leitfähigkeitstests von Keramiksubstraten, kontrolliertes Wachstum von ZnO-Nanostrukturen und Sinterexperimente in MLCC-Atmosphäre.