BESCHREIBUNG
Bieten Sie eine experimentelle Umgebung mit Vakuum, kontrollierbarer Atmosphäre und hoher Temperatur, die in Halbleitern, Nanotechnologie, Kohlefaser und anderen Bereichen eingesetzt wird.
Dieses CVD-Wachstumssystem eignet sich für CVD-Prozesse wie Siliziumkarbidbeschichtung, Leitfähigkeitstests von Keramiksubstraten, kontrolliertes Wachstum von ZnO-Nanostrukturen und Sinterexperimente in MLCC-Atmosphäre.