BESCHREIBUNG
Das 1600°C Vakuum/Atmosphären-Röhrenofen-CVD-System (CVD-TF) bietet eine experimentelle Umgebung mit Vakuum, kontrollierbarer Atmosphäre und hoher Temperatur und wird in der Halbleiter-, Nanotechnologie-, Faser- und anderen Bereichen eingesetzt. Dieses CVD-Wachstumssystem eignet sich für CVD-Prozesse, wie z. B. Siliziumkarbidbeschichtung, Leitfähigkeitstest für Keramiksubstrate, kontrollierbares Wachstum der ZnO-Nanostruktur, Atmosphärensintern von Keramikkondensatoren (MLCC) und andere Experimente.